光解廢氣凈化除臭設備 UV廢氣除臭設備 uv光催化氧化設備 磁感UV除臭設備 UV廢氣除臭凈化器 UV光解催化除臭設備 活性炭吸附凈化除臭設備 UV光解除臭設備
光催化除臭設備的工作原理及特點介紹
光催化除臭裝置是目前工業(yè)廢氣處理技術中的先進技術之一。其開發(fā)充分考慮了工業(yè)廢氣性質的不確定性和復雜性,從工程設計、匹配、安裝、調試和維護等方面提供了極大的可行性、可靠性、靈活性和有效性。下面簡要介紹光催化除臭裝置的工作原理和優(yōu)點。
光催化除臭裝置的除臭機理主要包括兩個方面:
第一,高壓放電等離子體過程中,高能產生的高頻放電,釋放出氣體分子的一些有害化學能,使它們成為無害的元素原子或分子;
第二,由于高壓放電等離子體含有大量高能電子、正負離子、激發(fā)態(tài)粒子和強氧化自由基,粒子和氣體分子與我的活性部位碰撞,在電場作用下產生激發(fā)態(tài)氣味分子。當氣味分子獲得的能量超過其分子鍵的結合能時,氣味分子的化學鍵就會分解,直接分解成單個或無害的單個原子分子。同時,大量的活性自由基,如OH、HO2等被高度氧化,與有害氣體分子發(fā)生化學反應,產生無害產物。光催化除臭裝置在處理廢氣和廢水的過程中,具有除塵、除臭、消毒殺菌、降解有機廢氣、釋放負氧離子等多種處理效果。光催化除臭裝置在廢氣和廢水處理中具有廣泛的環(huán)保功能。
高處理效率:
該設備能有效去除硫化氫(H2S)、氨(NH3)、甲硫醇等特定污染物。,以及各種氣味(臭味),效果可達90%以上。
節(jié)省投資,運行穩(wěn)定,能耗低;
采用進口高科技活性氧攻擊控制裝置,風阻小,使用壽命長,功耗極低。
純物理方法原理,安全可靠:
氧化反應在常溫常壓下進行,無二次污染。
未準備好完全主動運行:
無需專人處理,處理方便,運營成本極低??梢赃B續(xù)操作,也適合連續(xù)操作。
主動控制和簡單操作:
經(jīng)過PLC等自動控制,可以遠程操作,也可以本地操作。就地操作有手動操作和主動操作兩種方式,體積小,重量輕,占地面積小。光催化除臭裝置適用于安裝緊湊、場地狹窄等特殊條件的改造工程。