uv光氧催化除臭設(shè)備的除臭技術(shù)越來越成熟

 

uv光氧催化除臭設(shè)備采用等離子體分解技術(shù)除臭，保護***氣環(huán)境。它是一種工業(yè)除臭設(shè)備。由康華設(shè)計制造，經(jīng)過不斷改進，已經(jīng)成為工業(yè)除臭的***東西。除塵效果得到多方***評，能達到要求的粉塵濃度排放標(biāo)準(zhǔn)。

 

紫外線光催化氧化除臭設(shè)備是一種處理工業(yè)廢氣、異味和惡臭氣體的凈化裝置。它可以通過用高臭氧紫外光束照射廢氣來裂解氨、硫化氫、甲基硫、甲硫醇、甲基硫、二甲基二硫、二硫化碳、苯乙烯、硫化物H2S、揮發(fā)性有機化合物、苯、甲苯和二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使得有機或無機聚合物惡臭化合物的分子鏈降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

 

1.uv光催化氧化除臭設(shè)備的集氣裝置基于空氣動力學(xué)原理，選擇合理的進氣口形狀和位置，使氣流進入凈化系統(tǒng)。

 

2.排氣扇采用低能耗、低噪音的風(fēng)扇，提供廢氣排放，克服凈化裝置的阻力。

 

3.uv光催化氧化廢氣除臭設(shè)備凈化裝置粗過濾采用高性能濾料，阻力小uv光催化氧化廢氣除臭設(shè)備可以對廢氣進行粗過濾，去除廢氣中的懸浮顆粒和小液滴。濾網(wǎng)強度***，清洗方便，清洗后可重復(fù)使用，過濾阻力低。

 

4.廣譜納米光催化裝置是凈化YUV光催化氧化除臭設(shè)備的主要組成部分，采用廣譜和復(fù)合納米光催化劑。