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uv光解除臭設(shè)備的正壓和負(fù)壓

更新時(shí)間:2021-02-22 16:20????瀏覽:
uv光解除臭設(shè)備的正壓和負(fù)壓
 
uv光解除臭設(shè)備的正壓和負(fù)壓:推薦的方法是負(fù)壓,即風(fēng)機(jī)安裝在前端,處理器內(nèi)部壓力相對(duì)于***氣為負(fù)壓。負(fù)壓具有氣流穩(wěn)定、不漏氣、效果比正壓有所提高等***點(diǎn)。正壓僅在***殊情況下使用,如安裝***殊性、場(chǎng)地限制等。
 
電除塵技術(shù)是利用高壓電產(chǎn)生的強(qiáng)場(chǎng)強(qiáng)使氣體電離,即產(chǎn)生電暈放電,從而在電場(chǎng)力的作用下對(duì)粉塵進(jìn)行充電,分離氣體中懸浮顆粒的技術(shù)。電除塵技術(shù)廣泛應(yīng)用于電力、建材、冶金、化工、輕工、電子等行業(yè)的煙氣凈化。
 
紫外光氧凈化技術(shù)利用高臭氧分解空氣中的氧分子,產(chǎn)生游離氧,即活性氧,由于游離氧攜帶的正負(fù)電子不平衡,需要與氧分子結(jié)合,然后產(chǎn)生臭氧,使游離狀態(tài)的污染物分子被氧化,與臭氧結(jié)合,形成小的無(wú)害或低有害化合物。如CO2、H2O等。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。
 
UV光解除臭設(shè)備的正壓負(fù)壓?jiǎn)栴},風(fēng)扇基礎(chǔ),處理器基礎(chǔ),處理器基礎(chǔ)只需要保證抗風(fēng)即可。沒(méi)有***殊要求。風(fēng)機(jī)基礎(chǔ)必須符合安裝規(guī)范。***別注意共鳴。
 
uv光解凈化設(shè)備利用高能紫外光束和臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解和氧化反應(yīng),使惡臭氣體降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳,然后通過(guò)排氣管排放到室外,徹底達(dá)到除臭和殺菌的目的。是理想的環(huán)保產(chǎn)品。以下是uv光解凈化設(shè)備的***點(diǎn)介紹:
 
1.高效除臭:高效去除污染物和各種異味,***除臭效率達(dá)99%以上。
 
2.適應(yīng)性強(qiáng):能適應(yīng)高濃度、***氣量、不同惡臭氣體的除臭凈化處理。
 
3.運(yùn)行成本低:uv光解凈化設(shè)備無(wú)機(jī)械動(dòng)作,無(wú)噪音,無(wú)需專(zhuān)人管理和日常維護(hù)。
 
4.***質(zhì)進(jìn)口材料制造:高防火、防爆、防腐性能。
 
5.環(huán)保高科技專(zhuān)利產(chǎn)品:分解后的惡臭氣體完全可以實(shí)現(xiàn)無(wú)害化排放,***不會(huì)產(chǎn)生二次污染。
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