光催化氧化除臭設(shè)備機(jī)制主要包括兩方面:一是高壓放電等離子體的過(guò)程，高能量產(chǎn)生的高頻放電，一些有害的氣體化學(xué)能，使其成為無(wú)害的元素原子或;***二,由于高壓放電等離子體,其中包含***量的高能電子,積極的和消極的離子、激發(fā)態(tài)粒子和有很強(qiáng)的氧化基,粒子和氣體碰撞我的活動(dòng)部分,在電場(chǎng)的作用下,激發(fā)態(tài)的氣味。當(dāng)氣味獲得的能量超過(guò)其鍵的結(jié)合能時(shí)，臭味的化學(xué)鍵就會(huì)分解并直接分解成單個(gè)或無(wú)害的單個(gè)原子。同時(shí)，***量的活性基，如OH,HO2，·O和O3，被高度氧化，與有害氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生無(wú)害的產(chǎn)物。

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