提高光氧除臭設(shè)備光降解率的方法

 

光氧除臭設(shè)備的主要應(yīng)用技術(shù)是我們常說的光觸媒技術(shù)。這項(xiàng)技術(shù)要求安裝設(shè)計(jì)***殊波段的紫外燈，不同風(fēng)量的車間對紫外燈的數(shù)量和布置有重要影響。通常情況下，有機(jī)廢氣可以利用風(fēng)機(jī)的壓力聚集到光催化設(shè)備中，這樣濃度相對較***的廢氣就會在強(qiáng)紫外光束的影響下開始裂解凈化。該設(shè)備的***點(diǎn)是可以在低濃度、***風(fēng)量的環(huán)境中安裝使用，能夠達(dá)到理想的處理效果。

 

提高光氧除臭設(shè)備光降解率的方法:

 

1.光氧除臭設(shè)備利用高臭氧紫外-紫外光束照射惡臭氣體和二氧化鈦進(jìn)行光催化，催化裂解惡臭氣體如氮?dú)狻?-K胺、硫化氫、甲基硫化物、甲硫醇、二甲基二硫化物、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯、二甲苯等的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物的分子鏈在紫外光束照射下降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物。

 

2.為了提高光降解率，對二氧化鈦光催化劑進(jìn)行了進(jìn)化改性，如開發(fā)納米二氧化鈦、制備二氧化鈦復(fù)合半導(dǎo)體、摻雜金屬離子、敏化染料等。二氧化鈦催化劑也可以通過各種方法制備，以提高光催化劑的活性。

 

3.二氧化鈦在光氧除臭設(shè)備中的光催化活性對光催化反應(yīng)速率有很***影響，而二氧化鈦的光催化活性主要受二氧化鈦晶型和粒徑的影響。銳鈦礦型二氧化鈦具有高催化活性。隨著粒徑的減小，電子和空穴簡單復(fù)合的幾率降低，光催化活性增加。此外，孔隙率、平均孔徑、顆粒表面狀態(tài)、程度等也影響其光催化活性。

 

4.在光催化氧化反應(yīng)中，各種有機(jī)廢氣如烴類、醛類、酚類、醇類、硫醇類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物等VOC有機(jī)和無機(jī)物質(zhì)在光氧的催化下可還原為二氧化碳(CO2)、水(H2O)等物質(zhì)。

 

5.凈化后的廢氣分子被活化降解，同時(shí)氣味消失，起到凈化廢氣的作用。同時(shí)，管道中的所有滋生物都可以被清除。由于光催化氧化反應(yīng)過程中沒有任何添加劑，不會產(chǎn)生二次污染。在運(yùn)行成本方面，只使用電能，無需頻繁更換配件，對企業(yè)來說相當(dāng)節(jié)能。

 

光氧除臭設(shè)備是一種除臭設(shè)備，主要用于工業(yè)除臭，光解除臭設(shè)備依靠高溫?zé)舫簟９庋醭粼O(shè)備是一種除臭設(shè)備，主要針對空氣污染和廢氣排放。前期采用高溫?zé)艄芊纸饧夹g(shù)，高溫?zé)艄苓\(yùn)行由電控室控制。惡臭氣體進(jìn)入箱體后，在高溫下分解，然后通過濾網(wǎng)從出風(fēng)口排出，完成高溫除臭工作。事實(shí)上，氣態(tài)有機(jī)污染物的降解機(jī)理是:有足夠的能量產(chǎn)生自由基，引發(fā)一系列復(fù)雜的物理化學(xué)反應(yīng)。臭氧發(fā)生器引起的氣體和有機(jī)物的化學(xué)反應(yīng)是電離、離解、激發(fā)和氣相中的原子。分子間的相互作用和加成反應(yīng)。這種能量足以破壞***多數(shù)氣態(tài)有機(jī)化合物中的化學(xué)鍵，并使它們降解?？紤]到空氣凈化率，我們選擇了-C波段紫外線和臭氧發(fā)生器結(jié)合電暈電流較***的裝置，利用脈沖電暈放電和吸附技術(shù)相結(jié)合的原理去除有害氣體，其中-C波段紫外線主要用于去除硫化氫、氨、苯、甲醛、丙酮、氨基甲酸乙酯、樹脂等氣體，并對其進(jìn)行消毒清洗。

 

該光氧除臭設(shè)備應(yīng)用范圍廣，可處理凈化VOCs有機(jī)廢氣、非甲烷總烴、8種惡臭物質(zhì)(氨、硫化氫、二硫化碳、甲硫醇、甲硫醚、二甲基二硫、3-K胺、苯乙烯)、苯、聯(lián)苯等《***家惡臭污染控制標(biāo)準(zhǔn)》規(guī)定的廢氣，***別適用于處理各種惡臭廢氣、腐臭廢氣、噴漆廢氣等。